回收利用氢氟酸的清洗装置

    在晶体硅太阳电池行业中，氢氟酸(HF)因能去除硅片表面的氧化物而获得了广泛的应用，例如作为清洗剂或配合氧化剂对硅片进行腐蚀。氢氟酸是一种较危险的酸，其易与人体骨骼中的钙离子反应，从而对人体造成严重的伤害，因而在配置或更换氢氟酸溶液时操作人员需谨慎操作。氢氟酸废液需要进行严格处理后才能排放，现通常通过氢氧化钙溶液(石灰水)与氟离子形成氟化钙沉淀，但该种处理可能使氟离子的浓度仍达不到废水排放的要求，还需要通过硫酸铝或聚合氯化铝或膜过滤工艺等进行进一步处理。

    现晶体硅太阳电池行业的清洗装置可能具有多个氢氟酸槽，其浓度会存在一些差别，现有技术中对该些不同槽中的氢氟酸在使用一定周期后均作为废液并加以处理后排放，从而造成原材料的浪费，另外增加了操作人员配置或更换氢氟酸的次数，从而增加了操作人员受氢氟酸危害的风险。

    因此，如何提供一种可进行氢氟酸回收利用的清洗装置来对一些可回收利用的氢氟酸进行回收利用，从而降低成本和操作人员的安全风险，已成为业界亟待解决的技术问题。

实用新型内容

    本实用新型的目的是提供一种可进行氢氟酸回收利用的清洗装置，通过所述清洗装置可节约成本，并降低操作人员受氢氟酸危害的风险。

    为实现上述目的，本实用新型将提供一种可进行氢氟酸回收利用的清洗装置，所述清洗装置包括第一氢氟酸槽和第二氢氟酸槽，所述第二氢氟酸槽中的氢氟酸浓度大于第一氢氟酸槽中氢氟酸的浓度，所述第二氢氟酸槽具有第一溢流管道，所述第一溢流管道通过向下倾斜设置的第一连接管道连接至第一氢氟酸槽，所述第二氢氟酸槽中超过预设液位的氢氟酸通过第一溢流管道和第一连接管道流入第一氢氟酸槽。

    在一较佳实施例中，所述第二氢氟酸槽具有连接至溢流管道且接收溢流氢氟酸的缓存区，所述缓存区通过向下倾斜设置的第一连接管道连接至第一氢氟酸槽。

    在一较佳实施例中，所述第一氢氟酸槽中氢氟酸浓度为6 7％，用于去除磷硅玻璃。

    在一较佳实施例中，所述第二氢氟酸槽中氢氟酸浓度为8 9％，用于去除金属和二氧化硅。

    在一较佳实施例中，所述清洗装置在所述第一氢氟酸槽与第二氢氟酸槽间还具有湿法刻蚀槽。

    在一较佳实施例中，所述湿法刻蚀槽中的刻蚀液为氢氟酸与硝酸的混合溶液。

    在一较佳实施例中，所述清洗装置在所述第一氢氟酸槽与第二氢氟酸槽间还具有多个水洗槽。

    在一较佳实施例中，所述清洗装置还包括第三氢氟酸槽，所述第三氢氟酸槽中的氢氟酸浓度大于第二氢氟酸槽中氢氟酸的浓度，所述第三氢氟酸槽具有第二溢流管道，所述第二溢流管道通过向下倾斜设置的第二连接管道连接至第二氢氟酸槽，所述第三氢氟酸槽中超过预设液位的氢氟酸通过第二溢流管道和第二连接管道流入第二氢氟酸槽。

    在一较佳实施例中，所述清洗装置还可包括第四氢氟酸槽，所述第一氢氟酸槽中的氢氟酸浓度大于第四氢氟酸槽中氢氟酸的浓度，所述第一氢氟酸槽具有第三溢流管道，所述第三溢流管道通过向下倾斜设置的第三连接管道连接至第四氢氟酸槽，所述第一氢氟酸槽中超过预设液位的氢氟酸通过第三溢流管道和第三连接管道流入第四氢氟酸槽中。

    与现有技术中未对清洗所用的氢氟酸进行回收利用而直接作为废液处理，从而造成了成本浪费，另外增加了操作人员受氢氟酸危害的风险相比，本实用新型的可进行氢氟酸回收利用的清洗装置包括第一氢氟酸槽和第二氢氟酸槽，所述第二氢氟酸槽中的氢氟酸浓度大于第一氢氟酸槽中氢氟酸的浓度，所述第二氢氟酸槽具有第一溢流管道，所述第一溢流管道通过向下倾斜设置的第一连接管道连接至第一氢氟酸槽，所述第二氢氟酸槽中超过预设液位的氢氟酸通过第一溢流管道和连接管道流入第一氢氟酸槽。本实用新型通过将浓度较高的氢氟酸槽中的氢氟酸通过溢流的方式回收利用至浓度较低的氢氟酸槽，从而降低了成本，降低了操作人员受氢氟酸危害的风险。